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低溫小型恒溫水槽（-5℃～90℃）MD20-30I提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。

高低溫恒溫槽（-40℃～180℃）實現(xiàn)高溫195℃，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用，低使用溫度-40℃

高低溫恒溫槽MGD40-12為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源， 應用于-40℃～180℃（高至溫度195℃）石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用

計量檢定槽（-40℃～90℃）提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。

MDG20-54-高低溫恒溫循環(huán)槽-（20℃～180℃）實現(xiàn)高溫195℃，低溫-20℃恒溫測試，為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.05℃， 應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。

MGD40-30-高低溫恒溫循環(huán)槽（-40℃～180℃）為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源， 應用于-40℃～180℃（高至溫度195℃）石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用

MD10-100-大容量低溫恒溫槽（-10℃～90℃） 低溫恒溫槽提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。

高溫恒溫循環(huán)槽采用PID微機智能控制系統(tǒng)，配合高溫油泵循環(huán)，使槽內(nèi)溫度更均勻、控溫更精確；用于樣品保存、分析測試、計量檢定以及化學反應工藝過程控制，也可以作為普通溫度計及其它溫度測量儀表制造中的定標用途，可以按用戶要求提供流量、壓力及接口連接方式、連接尺寸等定制。

高溫檢定恒溫槽用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門，對試驗樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進行恒定溫度試驗或測試，為用戶工作時提供一個熱受控，溫度均勻恒定的場源；可實現(xiàn)90℃～300℃溫度控制，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.01℃